印染污水處理設備陳述

隨著我國經(jīng)濟的快速發(fā)展，工業(yè)廢水量逐年增加，水環(huán)境問題日益嚴重。紡織廢水是我國最重要的工業(yè)廢水污染源之一，也是國內(nèi)外的難處理的工業(yè)廢水之一。它具有成分復雜、生物降解性差、處理困難的特點。單獨采用傳統(tǒng)的生化處理工藝，處理效果差，難以達到排放要求。

印染污水處理設備工藝

1、印染廢水常用處理技術印染廢水的常用處理方法可分為物理法、化學法與

生物法三類。物理法主要有 格柵與篩網(wǎng)、調(diào)節(jié)、沉淀、氣浮、過濾、膜技術等，

化學法有中和、混凝、電 解、氧化、吸附、消毒等，生物法有厭氧生物法、好

氧生物法、兼氧生物法。

2、印染廢水處理單元的選擇系列

(1)調(diào)節(jié):對水質(zhì)水量變化大的廢水，調(diào)節(jié)池應考慮停留時間長些。一般情況下

后續(xù)處理單元為水解酸化或厭氧處理時，調(diào)節(jié)時不應采用曝氣方式攪拌混合。

(2)混凝反應:廢水中含疏水性染料較多時，混凝反應工藝放在生化前面，以去

除不溶性染料物質(zhì)，減輕后續(xù)生物處理的負荷。混凝藥劑可根據(jù)染料性質(zhì)選 用

堿式氯化鋁(PAC).(FeS04)等，混凝反應方式采用機械攪拌易于調(diào)整

水力條件，保證反應充分，反應時間應在25~30min之間。考慮脫色效 應時，應把反應時間再適當延長。

(3)中和:原水pH值高時通常用H2S04或HC1中和，為節(jié)省藥劑用量，可在 調(diào)

節(jié)以后。如采用煙道氣中和，應考慮脫硫及除灰。

(4)沉淀(氣浮):分離物化投藥反應由干污泥量大，應優(yōu)先考慮沉淀(斜管 沉

淀易堵不宜采用),通常的輻流沉淀池適用干大水量、豎流沉淀池適用干小 水量。

當有地皮可利用時，平流沉淀池采用吸泥方式時也可采用。投藥量大時泥量也

大，輻流池可能會引起異重流，新穎的周邊進出水沉淀池可克服這一缺點。如

廢水中表面活性劑含量高，應選擇氣浮法，氣浮法中壓力溶氣氣浮技術 成熟，

可考慮選用。

(5)過濾:當出水要求澄清或回用時，應采用砂濾或煤砂兩層過濾。

(6)電解法:鈦鍍釕惰性電極電解法處理酸性染料印染廢水脫色效果好，去除

COD 時，對硫化染料、還原染料、酸性染料、活性染料等均有很高的去除率。金

屬陽極電解法因泥量較多采用較少。

(7)厭氧水解:印染廢水有機物含量COD高，且B/C低，應考慮水解酸化，并增加填料掛膜，池底應設水力攪拌機，保證懸浮活性污泥與水中有機物廣泛接

觸。池體較大時，應設串聯(lián)系統(tǒng)，以免短路。印染廢水較少采用純厭氧技術，只

有當退漿廢水等高濃度廢水單獨分出時可考慮純厭氧處理。

(8)好氧生物降解:對水量大、濃度高的印染廢水優(yōu)先采用活性污泥法，如氧化

溝、間歇式活性污泥法(SBR)、循環(huán)式活性污泥法(CSTR)等。對水量小、濃度低

的廢水可考慮生物接觸氧化法，但填料應保證密集度和體積率，并以多 級串聯(lián)

方法為宜。曝氣方式如采用鼓風曝氣，應選用膜片式微孔曝氣頭或微孔曝氣管

等，保證充氧效率。

(9)脫色:采用C12需保證脫色氧化時間不少于1h，C12脫色兼有回調(diào)pH值的功能。小規(guī)模可選用C102、NaC10漂白粉【Ca(C10)2】、紫外線等。脫色反應池

可采用回轉(zhuǎn)隔板或折板,不宜采用機械攪拌或壓縮空氣反應。

(10)活性炭吸附:活性炭對陽離子染料、直接染料、酸性染料、活性染料等水溶

性染料的廢水具有良好的吸附性能(對硫化染料、還原染料等不溶性染料的廢水

效果較差)。生物活性炭(BAC)法是活性炭吸附的衍生技術，利用加入的微生物

所分泌的外酶滲入到炭的微孔結構，使活性炭所吸附的有機物不斷分解成C02

H20或合成新的細胞，最后滲出炭的結構而被去除。BAC技術需 保證進水有一定

溶解氧，炭床微生物需接種培育，BAC運行周期遠高于活性炭吸附。

(11)硅藻七吸附:硅藻土在印染廢水中既有混凝作用，又有吸附作用，起到良 好

的脫色效果。通常，活化硅藻土對親水性染料脫色效果不一，對疏水性染料效

果較好。當廢水中表面活性劑和勻染劑較多時，效果將顯著下降。

(12)氧化:臭氧氧化對直接染料、酸性染料、堿性染料、活性染料等親水性染料脫色速度快，效果好;對于還原染料、冰染染料(納夫妥)、氧化染料、硫 化染

料、分散染料等疏水性染料，則脫色效果較差，臭氧用量也大。臭氧脫色不會

產(chǎn)生“三致物”，可保證廢水出水的安全指標。Fenton催化氧化法在去除殘 余

COD方面效率顯著，可用于較小水量。Ti02催化氧化法可去除出水的殘余色度，

是有前景的光催化氧化技術。